中国有了光刻机核心技术

　　(原标题：中国有了光刻机核心技术)

　　科技日报北京5月13日电 (记者林莉君)对于普通人来说，光刻机或许是一个陌生的名词，但它却是制造大规模集成电路的核心装备，每颗芯片诞生之初，都要经过光刻技术的锻造。记者13日从清华大学获悉，国家科技重大专项“光刻机双工件台系统样机研发”通过验收，使我国成为少数能研制光刻机双工件台这一超精密机械与测控技术领域尖端系统的国家之一。

　　“简单地说，光刻机就是把工程师的设计‘印入’基底材料，其核心技术长期被荷兰、日本、德国等把持。”“千人计划”专家、从事密码芯片研发的九州华兴集成电路设计公司首席科学家丁丹在接受科技日报记者采访时说，“我们研发的芯片投入生产时，130纳米的芯片开模就是120万元人民币，而28纳米的芯片开模费用高达上千万元人民币。”

　　据介绍，为了将设计图形制作到硅片上，并在2