南大光电获1.83亿战略增资，光刻胶概念股大涨，“卡脖子”产品国产替代需求迫切

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国家大基金又出手了！

7月27日，南大光电发布公告称，控股子公司宁波南大光电材料有限公司拟通过增资扩股方式引入战略投资者大基金二期。国家大基金二期将以合计18330万元的价格，认购公司宁波南大光电的新增注册资本6733.19万元。此次增资完成后，公司在宁波南大光电持股比例由71.67%降至58.53%。

在此利好消息的刺激下，光刻胶概念大幅反弹。截止今日收盘，南大光电涨超13%，七彩化学、晶瑞股份、容大感光、格林达等涨逾2%。

国家大基金二期成立于2019年，主要投资于半导体材料和设备领域。而南大光电主要研发半导体材料，目前业务覆盖电子特气、光刻胶及配套材料三大领域。根据财报显示，企业净利润同比大幅增长，研发的ArF光刻胶产品正在推进认证，但截至目前还未实现盈利。

芯片生产工艺及其繁琐复杂，分为芯片设计、芯片制造和芯片封装步骤。在芯片制造环节主要用到光刻机设备，而光刻胶就是其中的主要材料。将光刻胶作涂层，就能在硅片表面刻蚀所需的电路图形。光刻胶是光刻工艺的核心，广泛应用于IC（集成电路）、FPD（平板显示）和PCB（印刷电路板）等下游领域，全球市场规模近百亿美元。在最高端的IC光刻胶领域，预计2020年全球市场规模有望超16亿美元。

天风证券研报显示，我国光刻胶产业在技术难度相对较低的PCB领域国产化率约50%，在技术难度较高的IC和FPD光刻胶领域国产化率约为5%，供需不匹配，亟需国产化。

光刻胶行业具有极高技术壁垒和资金准入门槛，因此呈现寡头垄断的局面。市场长年被日本和美国专业公司所垄断。前五大厂商占据了全球光刻胶市场87%的份额，行业集中度极高。

上世纪70年代初，我国光刻胶发展水平基本和国际同步，但之后越来越大。首创证券认为，国内半导体光刻胶同国外先进技术差距较大，国外已经可以量产第五代极紫外光刻机用（EUV）光刻胶，而我国在这一领域尚处在实验室阶段，最新的12英寸晶圆所用的ArF光刻胶在我国还处在研发阶段，8英寸晶圆所用KrF光刻胶国产化率仅为1%。

根据曝光波长，可以将半导体光刻胶分为不同种类。目前，全球市场用量最大的是KrF、ArF光刻胶，最先进的则是EUV光刻胶。越先进的芯片制程技术，需要波长越短的光刻胶，相应研发难度也越大。

另外，国际上光刻胶产能下降，叠加缺芯潮和国内芯片制造需求扩张，光刻胶产业迎来利好。据智研咨询估计，到2022年，大陆半导体光刻胶市场空间将接近55亿元，是2019年的两倍。不过经过多年的技术积累，我国在光刻胶材料和设备领域有所进展。在02国家重大专项项目的支持下，苏州晶瑞和南大光电都已经完成了深紫外KrF光刻胶生产线，ArF光刻胶进入小批量使用和产品系列化开发阶段；3月份，中国电科宣布实现离子注入机全谱系产品国产化，工艺段覆盖至28nm；2月，清华大学报告了一种新型粒子加速器光源“稳态微聚束”（Steady-state microbunching，SSMB）的首个原理验证实验，而SSMB光源的潜在应用之一是作为未来EUV光刻机的光源。

国联证券指出，由于地震原因，日本光刻胶龙头信越化学停止供货部分晶圆厂光刻胶。需求方面国内中芯国际、华虹宏力、广州粤芯等多家国内晶圆厂也在积极扩产，国内光刻胶需求量远大于国产产量且差额连年增长，尤其在ArF、高端KrF等半导体光刻胶方面，光刻胶作为“卡脖子”产品国产替代需求迫切。

南大光电在公告中表示，下一步，公司在积极推动ArF光刻胶产业化的同时，还将介入先进光刻胶配套材料的产业链，建立先进光刻胶配套材料的国产化供应体系，充分满足核心客户的需求，抓住半导体材料进口替代的历史性机遇，打造配套完整的国产光刻胶产业链，力争实现高端光刻胶生产的完全国产化，为公司打造新的利润增长点。

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